TCL华星开发全新量子点图案化技术：大于1000PPI_详细手游上线一览最新消息 据 TCL 华星亮相

　　导读：近期，TCL 华星显示技术革新中心新材料开发团队开发了一种新型的挑选性电沉积技术，做到了大于 1000PPI 的全色大面积量子点（QDs）图案化彩膜及高表现 QLED 器件的制备。

　　据 TCL 华星亮相，近期，TCL 华星显示技术革新中心新材料开发团队开发了一种新型的详细手游上线一览挑选性电沉积技术，做到了大于 1000PPI 的全色大面积量子点（QDs）图案化彩膜及高表现 QLED 器件的制备。

　　革新中心联合南科大，北大近期以“Large-AreaPatterning of Full-Color Quantum Dot Arrays Beyond 1000 Pixels Per Inch bySelective Electrophoretic Deposition”为题，在海外著名期刊《自然-通讯》（Nature Communications）在线发表有关探究论文。

　　量子点材料具有尺寸可控、发射波长可调、发射光谱窄、发光效率高等优点，近年来受到了广泛的留意。身为一种半导体特性材料，其在显示器件、照明器件、光伏太阳能电池、官方金秀贤观察光电探测器等领域均具有巨大的使用潜力。

　　据说明，到当下为止，各类各样的技术已然被使用于加工图案化和分辨率化的 QD 器件上，例如光刻、喷墨打印、Stamp 转移、微接触打印、纳米压印等，突发直播动态攻略但是这些方法分别存在着诸如紫外光和溶剂作用 QD 表现，加工工艺繁琐，加工时间长，器件效率低，重复性差等不足。所以，改进和进展新型量子点图案化技术针对 QD 的商业化使用是至关重大的。

　　探究团队受到偏振发光的量子棒有序化需要高频率交变电场驱动，否则将发生沉降现象的业内国产电影汇总启发，经由确认察觉，由无机半导体核和有机配体壳组成的胶体 QDs，其配体或许在溶液中解离，所以 QDs 表面或许富含阴离子或阳离子，带电的 QD 可以在电场的作用下沉积到相反电性的电极上。

　　基于此，探究团队运用高分辨率光刻微电极技术结合温和的电沉积技术开发了一种新型的 QD 挑选性电沉积 (SEPD) 图案化技术，做到了单电极上高效、均匀、大面积的全色 QD 图案化薄膜制备。


　　▲ 电沉积制备 QD 图案化薄膜的形貌和尺寸特征

　　经由合理的溶剂和配体设计，探究团队先是获得了单一电性的 QDs，有效地避免了正负电极另外沉积以及多色量子点沉积时的交叉污染。

　　所制备的 QD 薄膜具有可控的、均匀的特征尺寸（2μm—20μm），可以沉积成任意形状的图形，另外薄膜具有良好的形貌、有序的结构和良好的光学表现，其表面形貌、堆积密度和折射率（N=1.7-2.1）可以开展大范围的改动，从而获得各异条件下所需的量子点薄膜，并做到比传统溶液处理方法（旋涂和喷墨打印）更高的 PL 发光效率。经由调节电沉积电压和量子点浓度，可以在数纳米到数十微米的范围内精确调节图案化量子点薄膜的厚度。


　　▲ 电沉积制备全色 QD 图案化薄膜阵列

　　进一步地，探究团队将具有各异发射特性的量子点集成到大面积阵列中，形成全色分辨率，并制备了高表现 QLED 电致发光器件。

　　QLED 的电流效率为 77cd/A (G) 和 54 cd/A (R)，与现阶段喷墨打印的器件水平相当。溶剂和材料挑选的普适性、结构的可控性和器件良好的表现表明，挑选性电沉积技术 (SEPD) 是一种极具进展潜力的纳米粒子图形化加工技术。

　　有关图案化薄膜可以另外满足各异尺寸的液晶显示器（LCD）、Blue OLED 显示器和 Bluemicro-LED 显示器的色转换层以及 QLED 自发光显示器的请求，另外适用于低分辨率、中分辨率和高分辨率的显示器件，有关技术在光伏器件和量子点探测器领域也具有巨大使用前景。这一探究成果是华星光电不断在前沿技术领域探索与兴办的又一硕果，另外挑选性电沉积对薄膜不均现象和咖啡环难题的显著改进也是对喷墨打印技术的有力补充。


　　▲ 电沉积制备 QLED 表现表征

　　显示技术革新中心赵金阳博士为本论文第一作者，革新中心电子化学材料部部长陈黎暄，北京大学张盛东教授和南科大孙小卫教授为该论文通讯作者。

　　有关探究得到了华星光电半导体显示技术有限企业、TCL 工业探究院、全国自然科学基金、广东省重点领域开发打算和深圳市孔雀团队项目的大力扶持。